एल.एफ.एम.डी. में विकसित उपकरण और सेट अप

  • निम्न तापमान विलयन संवर्धन वर्कस्टेशन।
  • उच्च तापमान विलयन संवर्धन वर्कस्टेशन।
  • स्वचालित व्यास नियंत्रण (ADC) प्रणाली (ज़ोक्राल्स्की क्रिस्टल पुलर)।
  • लंबवत प्रवणता फ्रीज ब्रिजमैन ग्रोथ वर्कस्टेशन।
  • त्वरित क्रिस्टल रोटेशन (एसीआर) नियंत्रण।
  • पायरोइलेक्ट्रिक गुणांक माप यंत्र।
  • उच्च तापमान पोलिंग सेट अप (फेरोइलेक्ट्रिक डोमेन स्विचिंग के लिए)।
  • पानी के विलवणीकरण के लिए कैपेसिटिव डीआयोनाइजेशन (सीडीआई) सेटअप।
  • क्रिस्टल सम्वर्धन हेतु एडीसी नियंत्रण प्रणाली।
  • आंतरिक विकसित ज़ोक्राल्स्की पुलर के नियंत्रण और स्वचालन हेतु सॉफ्टवेयर।
  • प्रतिबाधा विश्लेषक (HP4194A Hewlett Packard, USA) का उपयोग करके डाइलेक्ट्रिक माप और डेटा लॉगिंग के लिए सॉफ्टवेयर।
  • एनएलओ क्रिस्टल में विभिन्न अंतःक्रियाओं हेतु कला मिलान कोण की गणना के लिए सॉफ्टवेयर रूटीन।

उपकरण:

1. निम्न तापमान विलयन संवर्धन वर्कस्टेशन:

DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE विनिर्देश: तापमान रेंज: 15-75 °C
     तापमान स्थिरता: ± 0.1 °C
     तापमान प्रवणता: ± 0.01 °C/cm
क्षमता: 200 L क्रिस्टलाइज़र क्षमता: 20 L

2. उच्च तापमान विलयन संवर्धन वर्कस्टेशन:

DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE
थ्री जोन निम्न ग्रेडिएंट फर्नेस तापमान प्रोफ़ाइल
DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE
दो जोन उच्च ग्रेडिएंट फर्नेस तापमान प्रोफ़ाइल

3. स्वचालित व्यास नियंत्रण (ADC) प्रणाली (ज़ोक्राल्स्की क्रिस्टल पुलर):

DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE महत्वपूर्ण विनिर्देश:

   पुल रेट: 0.01-20 mm/h
   रोटेशन रेट: 0.1-20 rpm
   लोड सेल क्षमता: 8 kg (रिज़ोल्युशन: 10 mg)
   एडीसी: आनुपातिक और समाकलन योजना के माध्यम से(PI)
इन-हाउस विकसित एडीसी क्रिस्टल पुलर

4. लंबवत प्रवणता फ्रीज ब्रिजमैन ग्रोथ वर्कस्टेशन

पारंपरिक ब्रिजमैन तकनीक (एम्प्यूल को स्थानांतरित करके संवर्धन) के साथ-साथ वर्टिकल ग्रेडिएंट फ्रीजिंग (वीजीएफ) तकनीक (तापमान प्रवणता को बदलकर और एम्पुल को स्थिर रखते हुए संवर्धन) द्वारा क्रिस्टल के संवर्धन के लिए एक पांच जोन फर्नेस स्थापित किया गया है। प्रत्येक क्षेत्र के तापमान को नियंत्रित करने के लिए अलग-अलग सिंगल लूप तापमान नियंत्रक और थाइरिस्टर का उपयोग किया जाता है। के-टाइप थर्मोकपल का उपयोग करके सभी क्षेत्रों के तापमान की निगरानी की गई। चार्ट-रहित रिकॉर्डर का उपयोग करके फर्नेस की पूरी लंबाई के साथ तापमान प्रोफ़ाइल की ऑन-लाइन रिकॉर्डिंग के लिए दस थर्मोकपल के एक और सेट का उपयोग किया जाता है। सभी तापमान नियंत्रकों और मॉनिटरों को RS482-RS232 कनवर्टर का उपयोग करके संगणक से जोड़ा जाता है और चार्ट रिकॉर्डर को इंटरफेस किया जाता है। नियंत्रण और डेटा लॉगिंग की निगरानी iTools सॉफ़्टवेयर का उपयोग करके की जाती है।

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फाइव जोन वीजीएफ/ब्रिजमैन ग्रोथ सेट-अप। समय के एक फलन के रूप में अनुकूलित फ्रीजिंग प्रोफाइल में से एक।

5. त्वरित क्रिस्टल रोटेशन (एसीआर) नियंत्रक:

DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE विनिर्देश:

       T1 ( रैंप+ ड्वैल): 3-500 sec
       T2 ( रैम्प टाएम): 1-200 sec
       T3 (विश्राम समय): 3-200 sec
       अधिकतम आर.पी.एम.: 100
ACR control unit RPM profile

सेट अप:

1. पायरोइलेक्ट्रिक गुणांक माप सेट-अप:

क्रिस्टल के पायरोइलेक्ट्रिक गुणों के मूल्यांकन के लिए एक पायरोइलेक्ट्रिक गुणांक मापक यंत्र स्थापित किया गया है। इस विधि में एक समान दर पर नमूने को गर्म या ठंडा किया जाता है, और उत्पन्न पायरो-करंट को एक प्रतिरोध के पार मापा जाता है। उत्पन्न पायरो-वोल्टेज को उच्च प्रतिबाधा कीथली मेक इलेक्ट्रोमीटर का उपयोग करके रिकॉर्ड किया गया था। नमूने को गर्म करने के लिए एक कंथल मेक हीटिंग मॉड्यूल का उपयोग किया गया था। नमूना तापमान की निगरानी के लिए K- प्रकार के थर्मोकपल का उपयोग किया गया था। सेट-अप कमरे के तापमान से 600 oC तक पाइरोइलेक्ट्रिक गुणांक का मूल्यांकन कर सकता है। डेटा अधिग्रहण और लॉगिंग के लिए एक लैब व्यू आधारित कंप्यूटर इंटरफ़ेस विकसित किया गया था

DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE
विकसित पायरोइलेक्ट्रिक माप सेट-अप स्क्रीन शॉट तापमान परिवर्तन दिखा रहा है तथा
माप के दौरान उत्पन्न पाइरोकरंट
विकसित सेट-अप का उपयोग करके मापे गये
पायरोइलेक्ट्रिक गुणांक की तुलना
अनडोप्ड, Ce और Gd डोप्ड SBN-61 हेतु

2. उच्च तापमान पोलिंग सेट-अप (फेरोइलेक्ट्रिक डोमेन स्विचिंग हेतु):

DAE_RRCAT_INDORE विनिर्देश:

       तापमान रेंज: 1200°C तक
       धारा घनत्व सीमा: 1-20 mA/cm2
उच्च तापमान पोलिंग सेट अप जिसमें इन-हाउस विकसित विद्युत धारा स्रोत मॉड्यूल शामिल है

3. पानी के विलवणीकरण के लिए कैपेसिटिव डीआयोनाइजेशन (सीडीआई) सेट-अप:

DAE_RRCAT_INDORE DAE_RRCAT_INDORE विनिर्देश:

लवणता को 1000 पीपीएम से हटाकर 200 पीपीएम से भी कम कर देता है
प्रति बैच 500 मिलीलीटर की क्षमता
पानी से आर्सेनिक को 200 पीपीबी से 20 पीपीबी से भी कम कर देता है।
जल विलवणीकरण के लिए सीडीआई सेटअप आर्सेनिक हटाने के लिए सीडीआई सेटअप

सॉफ्टवेयर:

  • क्रिस्टल विकास के लिए एडीसी नियंत्रण प्रणाली।
  • आंतरिक विकसित ज़ोक्राल्स्की पुलर के नियंत्रण और स्वचालन हेतु सॉफ्टवेयर।
  • प्रतिबाधा विश्लेषक (HP4194A Hewlett Packard, USA) का उपयोग करके डाइलेक्ट्रिक माप और डेटा लॉगिंग के लिए सॉफ्टवेयर।
  • एनएलओ क्रिस्टल में विभिन्न अंतःक्रियाओं हेतु कला मिलान कोण की गणना के लिए सॉफ्टवेयर रूटीन।
सर्वोतम नज़ारा १०२४ x ७६८